Bearbeitung der Silizium Wafer
Fotolithografie
- Auftragen eines Fotolacks (Fotoresist) der durch Licht reagiert
- Aufbringen von Strukturinformationen mit einer Fotomaske durch Lichtstrahlen (Auflösung wird durch Wellenlänge bestimmt)
- Übertragen der Struktur auf die darunterliegende Schicht (z.B. durch Ätzen)
- Entfernen des Lacks
Diese Vorgänge werden mit verschieden Strukturinformationen wiederholt