Bearbeitung der Silizium Wafer

Die Dotierung

• einbringen von Fremdatomen in den Wafer
• Ziel: Veränderung der Leitfähigkeit oder Kristallstruktur
• zwei Arten von Dotierung: p-Dotierung und n-Dotierung

Die n-Dotierung

Einbringen von V-Wertigen Atomen(Donatoren) und ersetzen der IV-Wertigen Siliziumatome

Überschuss von Elektronen und weiterspringen von Elektronen bei Spannungsanlegen

bei dem Implantierten Atom entsteht eine dauerhafte positive Ladung